在读研期间，所有与你读研相关的事情，可能都需要经过你的导师同意，所以说，选择导师真的很重要，也希望大家能够认真对待这件事，怎样才能选择适合自己的导师呢?这就要我们提前做足功课，尽可能多的搜集有关你准备报考的导师的信息，下面新东方在线考研频道为大家分享：“中国科学院大学硕士研究生导师信息：邓文渊”文章。

　　中国科学院大学硕士研究生导师信息：邓文渊

　　邓文渊 男 硕导 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

　　电子邮件： dengwy@ciomp.ac.cn

　　通信地址： 长春市东南湖大路3888号

　　邮政编码：

　　招生信息

　　招生专业

　　080300-光学工程

　　招生方向

　　光学薄膜及器件

　　教育背景

　　2004-09--2008-02 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 博士

　　2000-09--2003-04 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 硕士

　　1992-09--1995-07 南昌大学 大学

　　工作经历

　　工作简历

　　2009-10~2021-07,中国科学院长春光学精密机械与物理研究所, 副研究员

　　2004-09~2008-02,中国科学院长春光学精密机械与物理研究所, 博士

　　2003-04~2009-09,中国科学院长春光学精密机械与物理研究所, 助理研究员

　　2000-09~2003-04,中国科学院长春光学精密机械与物理研究所, 硕士

　　1995-07~2000-09,江西省赣州监狱, 副中队长

　　1992-09~1995-07,南昌大学, 大学

　　专利与奖励

　　专利成果

　　( 1 ) 一种EUV多层膜光学元件的综合测试装置与及其测试方法, 2021, 第 1 作者, 专利号: 202110726504.1

　　( 2 ) 一种EUV掩膜板对准标记及其优化方法和制备方法, 2021, 第 1 作者, 专利号: 202110726501.8

　　( 3 ) 一种深紫外波段宽带分束膜制备方法, 2019, 第 1 作者, 专利号: 108169827

　　( 4 ) 一种CaF2光学基底清洗方法, 2019, 第 1 作者, 专利号: 201910935258.3

　　( 5 ) 一种减反射膜的制备方法及大角度入射减反射膜, 2019, 第 1 作者, 专利号: 106772710

　　( 6 ) 一种CaF2光学基底表面和亚表面损伤探测方法, 2019, 第 1 作者, 专利号: 106404746

　　( 7 ) 一种CaF2光学基底深紫外激光辐射诱导表面变化检测方法, 2019, 第 1 作者, 专利号: 106404745

　　( 8 ) 一种制备多层膜元件过程中非灵敏层误差控制方法及装置, 2018, 第 4 作者, 专利号: 106756864

　　( 9 ) CaF2光学薄膜元件的制备方法及CaF2光学薄膜元件, 2018, 第 1 作者, 专利号: 106405688

　　( 10 ) UV光的应用方法及UV光薄膜处理应用装置, 2018, 第 1 作者, 专利号: 105855243

　　( 11 ) 光学薄膜及元件表面激光损伤的高灵敏快速在线探测方法, 2017, 第 1 作者, 专利号: 105021627

　　( 12 ) 一种极紫外光学元件表面污染层厚度控制方法及装置, 2015, 第 1 作者, 专利号: 201510962345.x

　　( 13 ) 一种极紫外光学元件表面污染清洗装置及方法, 2015, 第 1 作者, 专利号: 201510963031.1

　　出版信息

　　发表论文

　　(1) Plasma-ion-assited deposition of HfO2 films with low UV absorption, Surface & Coating Technolo gy, 2020, 第 1 作者

　　(2) Laser induced damage threshold testing of DUV optical materials, CHINESE OPTICS LETTERS, 2013, 第 1 作者

　　(3) Characterization of Interfacial Layer of DUV coatings by Sepctroscopic Elliptrometry, Advanced Material Research, 2013, 第 1 作者

　　(4) Optimal design and fabrication method for antireflection coatings for P-polarized 193 nm laser beam at large angles of incidence (68°–74°), J. Opt. Soc. Am. A, 2013, 第 4 作者

　　(5) Analysis of spectral components in the 1.5 lm emission band of Er3+ doped borosilicate glass, Journal of Non-Crystalline Solids, 2004, 第 1 作者

　　科研活动

　　科研项目

　　( 1 ) ArF光源光学薄膜元件研制, 参与, 国家任务, 2013-01--2021-06

　　( 2 ) 极紫外光刻机核心子系统攻关与验证, 参与, 国家任务, 2019-01--2021-06

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